Προϊόντα

Προϊόντα
View as  
 
Φορέας χάραξης PSS με επίστρωση SiC

Φορέας χάραξης PSS με επίστρωση SiC

Οι φορείς γκοφρέτας που χρησιμοποιούνται στην επιξιακή ανάπτυξη και την επεξεργασία της γκοφρέτας πρέπει να αντέχουν σε υψηλές θερμοκρασίες και σκληρό χημικό καθαρισμό. Semicorex SiC Coated PSS Etching Carrier σχεδιασμένο ειδικά για αυτές τις απαιτητικές εφαρμογές εξοπλισμού επιταξίας. Τα προϊόντα μας έχουν καλό πλεονέκτημα τιμής και καλύπτουν πολλές από τις αγορές της Ευρώπης και της Αμερικής. Ανυπομονούμε να γίνουμε ο μακροπρόθεσμος συνεργάτης σας στην Κίνα.

Διαβάστε περισσότεραΑποστολή Ερώτησης
Επικαλυμμένο με SiC Barrel Susceptor για LPE Epitaxial Growth

Επικαλυμμένο με SiC Barrel Susceptor για LPE Epitaxial Growth

Το Semicorex SiC Coated Barrel Susceptor for LPE Epitaxial Growth είναι ένα προϊόν υψηλής απόδοσης που έχει σχεδιαστεί για να παρέχει σταθερή και αξιόπιστη απόδοση για μεγάλο χρονικό διάστημα. Το ομοιόμορφο θερμικό του προφίλ, η στρωτή ροή αερίου και η πρόληψη της μόλυνσης το καθιστούν ιδανική επιλογή για την ανάπτυξη επιταξιακών στρωμάτων υψηλής ποιότητας σε τσιπς γκοφρέτας. Η δυνατότητα προσαρμογής και η οικονομική του αποδοτικότητα το καθιστούν ένα εξαιρετικά ανταγωνιστικό προϊόν στην αγορά.

Διαβάστε περισσότεραΑποστολή Ερώτησης
Σύστημα Epi Δέκτη Κάννης

Σύστημα Epi Δέκτη Κάννης

Το Semicorex Barrel Susceptor Epi System είναι ένα προϊόν υψηλής ποιότητας που προσφέρει ανώτερη πρόσφυση επίστρωσης, υψηλή καθαρότητα και αντοχή στην οξείδωση σε υψηλή θερμοκρασία. Το ομοιόμορφο θερμικό του προφίλ, η στρωτή ροή αερίου και η πρόληψη της μόλυνσης το καθιστούν ιδανική επιλογή για την ανάπτυξη επιξικών στρωμάτων σε τσιπς γκοφρέτας. Η σχέση κόστους-αποτελεσματικότητας και η δυνατότητα προσαρμογής του το καθιστούν ένα εξαιρετικά ανταγωνιστικό προϊόν στην αγορά.

Διαβάστε περισσότεραΑποστολή Ερώτησης
Σύστημα Αντιδραστήρα Επιτάξεως Υγρής Φάσης (LPE).

Σύστημα Αντιδραστήρα Επιτάξεως Υγρής Φάσης (LPE).

Το Semicorex Liquid Phase Epitaxy (LPE) Reactor System είναι ένα καινοτόμο προϊόν που προσφέρει εξαιρετική θερμική απόδοση, ομοιόμορφο θερμικό προφίλ και ανώτερη πρόσφυση επίστρωσης. Η υψηλή καθαρότητα, η αντοχή στην οξείδωση σε υψηλή θερμοκρασία και η αντοχή στη διάβρωση το καθιστούν ιδανική επιλογή για χρήση στη βιομηχανία ημιαγωγών. Οι προσαρμόσιμες επιλογές και η οικονομική του αποδοτικότητα το καθιστούν ένα εξαιρετικά ανταγωνιστικό προϊόν στην αγορά.

Διαβάστε περισσότεραΑποστολή Ερώτησης
CVD επιταξιακή εναπόθεση σε αντιδραστήρα κάννης

CVD επιταξιακή εναπόθεση σε αντιδραστήρα κάννης

Το Semicorex CVD Epitaxial Deposition In Barrel Reactor είναι ένα εξαιρετικά ανθεκτικό και αξιόπιστο προϊόν για την ανάπτυξη επιξιακών στρωμάτων σε τσιπς γκοφρέτας. Η αντοχή στην οξείδωση σε υψηλή θερμοκρασία και η υψηλή καθαρότητά του το καθιστούν κατάλληλο για χρήση στη βιομηχανία ημιαγωγών. Το ομοιόμορφο θερμικό προφίλ του, το μοτίβο στρωτή ροής αερίου και η πρόληψη μόλυνσης το καθιστούν ιδανική επιλογή για υψηλής ποιότητας ανάπτυξη επιξιακής στιβάδας.

Διαβάστε περισσότεραΑποστολή Ερώτησης
Επιταξιακή εναπόθεση πυριτίου σε αντιδραστήρα βαρελιού

Επιταξιακή εναπόθεση πυριτίου σε αντιδραστήρα βαρελιού

Εάν χρειάζεστε έναν υποδοχέα γραφίτη υψηλής απόδοσης για χρήση σε εφαρμογές κατασκευής ημιαγωγών, το Semicorex Silicon Epitaxial Deposition In Barrel Reactor είναι η ιδανική επιλογή. Η επίστρωση SiC υψηλής καθαρότητας και η εξαιρετική θερμική αγωγιμότητα παρέχουν ανώτερες ιδιότητες προστασίας και κατανομής θερμότητας, καθιστώντας το την ιδανική επιλογή για αξιόπιστη και σταθερή απόδοση ακόμη και στα πιο δύσκολα περιβάλλοντα.

Διαβάστε περισσότεραΑποστολή Ερώτησης
X
Χρησιμοποιούμε cookies για να σας προσφέρουμε καλύτερη εμπειρία περιήγησης, να αναλύσουμε την επισκεψιμότητα του ιστότοπου και να εξατομικεύσουμε το περιεχόμενο. Χρησιμοποιώντας αυτόν τον ιστότοπο, συμφωνείτε με τη χρήση των cookies από εμάς. Πολιτική Απορρήτου
Απορρίπτω Αποδέχομαι