Κίνα Πορώδης γραφίτης Manufacturers, Suppliers, Factory

Οι περισσότεροι παραγωγοί υποστρώματος SiC σήμερα χρησιμοποιούν ένα σχέδιο χωνευτηρίου που περιλαμβάνει έναν πορώδη κύλινδρο γραφίτη για τη διαδικασία θερμού πεδίου. Η διαδικασία περιλαμβάνει την τοποθέτηση σωματιδίων SiC υψηλής καθαρότητας μεταξύ του τοιχώματος του χωνευτηρίου γραφίτη και του πορώδους κυλίνδρου γραφίτη ενώ βαθαίνει το χωνευτήριο και αυξάνεται η διάμετρός του. Αυτό αυξάνει την περιοχή εξάτμισης της πρώτης ύλης ενώ παράλληλα αυξάνει τον όγκο φόρτισης.

Η νέα διαδικασία λύνει το πρόβλημα των κρυσταλλικών ελαττωμάτων που προκύπτουν λόγω της ανακρυστάλλωσης του άνω μέρους της πρώτης ύλης καθώς μεγαλώνει η επιφάνεια του υλικού προέλευσης, γεγονός που επηρεάζει τη ροή του εξαχνωμένου υλικού. Επιπλέον, η νέα διαδικασία μειώνει την ευαισθησία της κατανομής θερμοκρασίας της περιοχής της πρώτης ύλης στην ανάπτυξη κρυστάλλων, σταθεροποιεί την απόδοση μεταφοράς μάζας, μειώνει την επίδραση των εγκλεισμάτων άνθρακα κατά το τελευταίο στάδιο ανάπτυξης και βελτιώνει περαιτέρω την ποιότητα των κρυστάλλων SiC. Επιπλέον, η νέα διαδικασία υιοθετεί μια μέθοδο στερέωσης δίσκου κρυστάλλου χωρίς σπόρους που δεν κολλάει στους κρυστάλλους των σπόρων, απελευθερώνοντας έτσι τη θερμική διαστολή και διευκολύνοντας την ανακούφιση από το στρες. Αυτή η νέα διαδικασία βελτιστοποιεί το θερμικό πεδίο και βελτιώνει σημαντικά την απόδοση της διαστολής.

Είναι σημαντικό να σημειωθεί ότι η ποιότητα και η απόδοση των μονοκρυστάλλων SiC που λαμβάνονται με αυτή τη νέα διαδικασία εξαρτώνται σε μεγάλο βαθμό από τις φυσικές ιδιότητες του γραφίτη του χωνευτηρίου και του πορώδους γραφίτη. Ωστόσο, η προσφορά στην αγορά είναι επί του παρόντος πολύ μικρή σε σχέση με την αυξανόμενη ζήτηση.

Βασικά χαρακτηριστικά του πορώδους γραφίτη:

Κατάλληλη κατανομή μεγέθους πόρων.

Επαρκώς υψηλό πορώδες.

Μηχανικό για να καλύψει τις απαιτήσεις επεξεργασίας και χρήσης.

Η Semicorex προσφέρει εξατομικευμένα προϊόντα από πορώδη γραφίτη υψηλής ποιότητας σύμφωνα με τις απαιτήσεις σας.