Τα εύκαμπτα φύλλα και φύλλα γραφίτη τυπικής ποιότητας υψηλής καθαρότητας Semicorex είναι σχεδιασμένα να έχουν περιεκτικότητα σε τέφρα μικρότερη από 10 ppm. Η χαμηλή περιεκτικότητα σε τέφρα είναι ζωτικής σημασίας για απαιτητικές διεργασίες και συστήματα σε εφαρμογές υψηλής θερμοκρασίας, ιδιαίτερα σε βιομηχανίες όπως ημιαγωγοί, ηλιακοί και κεραμικοί.
Σε εφαρμογές υψηλής θερμοκρασίας, όπου υπάρχει ακραία ζέστη και σκληρές συνθήκες, η παρουσία τέφρας μπορεί να προκαλέσει προβλήματα όπως μόλυνση, μειωμένη απόδοση και πιθανή ζημιά στον εξοπλισμό ή τα εξαρτήματα. Εξασφαλίζοντας χαμηλή περιεκτικότητα σε τέφρα, τα εύκαμπτα φύλλα γραφίτη Semicorex πληρούν τις αυστηρές απαιτήσεις αυτών των βιομηχανιών και παρέχουν αξιόπιστη απόδοση.
Διαδικασία Κατασκευής
Το Graphite Foil κατασκευάζεται από υψηλής καθαρότητας, υψηλής κρυσταλλικότητας φυσικές νιφάδες γραφίτη, οι οποίες επεξεργάζονται σε συνεχές φύλλο με ειδικές όξινες και θερμικές επεξεργασίες για την παραγωγή κρυστάλλων διογκωμένου γραφίτη. Οι διογκωμένοι κρύσταλλοι γραφίτη στη συνέχεια διαμορφώνονται σε αλουμινόχαρτο μέσω μιας διαδικασίας ημερολογίου χωρίς ρητίνες και συνδετικά.
Εφαρμογές
Οι εξαιρετικές ιδιότητες του φύλλου γραφίτη Semicorex το καθιστούν κατάλληλο υλικό για μια ευρεία γκάμα εξαρτημάτων και εξαρτημάτων σε κλιβάνους θερμικής επεξεργασίας, πολυκρυσταλλικό πυρίτιο, ημιαγωγούς, ηλιακό και άλλο εξοπλισμό παραγωγής κεραμικών.
● Φούρνοι κενού
● Κλίβανοι αδρανούς αερίου
● Θερμική επεξεργασία (σκλήρυνση, ενανθράκωση, συγκόλληση κ.λπ.)
● Παραγωγή υαλοπινάκων χαλαζία
● Παραγωγή ανθρακονημάτων
● Παραγωγή καρβιδίου με τσιμέντο
● Εφαρμογές πυροσυσσωμάτωσης και θερμής πρέσας
● Τεχνική κεραμική παραγωγή, π.χ. θωράκιση σώματος
● Επίστρωση CVD/PVD
● Χωνευτήρια για τράβηγμα κρυστάλλων SiC