Φορείς γκοφρέτας με επίστρωση SiC

Οι Semicorex Wafer Carriers με επίστρωση SiC παρουσιάζουν εξαιρετική θερμική σταθερότητα και αγωγιμότητα, απαραίτητες για τη διατήρηση σταθερών θερμοκρασιών κατά τη διάρκεια των διεργασιών χημικής εναπόθεσης ατμών (CVD). Αυτό εξασφαλίζει ομοιόμορφη κατανομή θερμότητας σε όλο το υπόστρωμα, κάτι που είναι κρίσιμο για την επίτευξη υψηλής ποιότητας χαρακτηριστικών λεπτής μεμβράνης και επίστρωσης.

Τα Wafer Carriers με επίστρωση SiC κατασκευάζονται με αυστηρά πρότυπα, εξασφαλίζοντας ομοιόμορφο πάχος και ομαλότητα επιφάνειας. Αυτή η ακρίβεια είναι ζωτικής σημασίας για την επίτευξη σταθερών ρυθμών εναπόθεσης και ιδιοτήτων φιλμ σε πολλαπλά πλακίδια.

Η επίστρωση SiC δρα ως αδιαπέραστο φράγμα, εμποδίζοντας τη διάχυση ακαθαρσιών από τον υποδοχέα στη γκοφρέτα. Αυτό ελαχιστοποιεί τον κίνδυνο μόλυνσης, ο οποίος είναι κρίσιμος για την παραγωγή συσκευών ημιαγωγών υψηλής καθαρότητας. Η ανθεκτικότητά τους των φορέων γκοφρέτας Semicorex με επίστρωση SiC μειώνει τη συχνότητα αντικατάστασης υποδοχέα, οδηγώντας σε χαμηλότερο κόστος συντήρησης και ελαχιστοποίηση του χρόνου διακοπής λειτουργίας στις εργασίες κατασκευής ημιαγωγών.

Οι φορείς γκοφρέτας Semicorex με επίστρωση SiC μπορούν να προσαρμοστούν ώστε να πληρούν συγκεκριμένες απαιτήσεις διαδικασίας, συμπεριλαμβανομένων των παραλλαγών στο μέγεθος, το σχήμα και το πάχος της επίστρωσης. Αυτή η ευελιξία επιτρέπει τη βελτιστοποίηση του υποδοχέα ώστε να ταιριάζει με τις μοναδικές απαιτήσεις των διαφορετικών διαδικασιών κατασκευής ημιαγωγών. Οι επιλογές προσαρμογής επιτρέπουν την ανάπτυξη σχεδίων υποδοχέων προσαρμοσμένων για εξειδικευμένες εφαρμογές, όπως η κατασκευή μεγάλου όγκου ή η έρευνα και ανάπτυξη, εξασφαλίζοντας βέλτιστη απόδοση για συγκεκριμένες περιπτώσεις χρήσης.