Η Semicorex είναι κορυφαίος κατασκευαστής και προμηθευτής SiC Susceptor για MOCVD. Το προϊόν μας είναι ειδικά σχεδιασμένο για να καλύπτει τις ανάγκες της βιομηχανίας ημιαγωγών για την ανάπτυξη του επιταξιακού στρώματος στο τσιπ γκοφρέτας. Το προϊόν χρησιμοποιείται ως κεντρική πλάκα στο MOCVD, με γρανάζι ή σχέδιο σε σχήμα δακτυλίου. Έχει υψηλή αντοχή στη θερμότητα και τη διάβρωση, καθιστώντας το ιδανικό για χρήση σε ακραία περιβάλλοντα.
Το SiC Susceptor για MOCVD είναι ένα προϊόν κορυφαίας ποιότητας που έχει πολλά βασικά χαρακτηριστικά. Εξασφαλίζει επίστρωση σε όλες τις επιφάνειες, αποφεύγοντας το ξεφλούδισμα και έχει αντοχή στην οξείδωση σε υψηλή θερμοκρασία, εξασφαλίζοντας σταθερότητα ακόμα και σε υψηλές θερμοκρασίες έως και 1600°C. Το προϊόν κατασκευάζεται με υψηλή καθαρότητα μέσω εναπόθεσης χημικών ατμών CVD υπό συνθήκες χλωρίωσης υψηλής θερμοκρασίας. Έχει μια πυκνή επιφάνεια με λεπτά σωματίδια, καθιστώντας το ιδιαίτερα ανθεκτικό στη διάβρωση από οξύ, αλκάλιο, αλάτι και οργανικά αντιδραστήρια.
Το SiC Susceptor μας για MOCVD έχει σχεδιαστεί για να εγγυάται το καλύτερο μοτίβο στρωτή ροή αερίου, διασφαλίζοντας ομοιόμορφο θερμικό προφίλ. Αποτρέπει οποιαδήποτε μόλυνση ή διάχυση ακαθαρσιών, εξασφαλίζοντας επιταξιακή ανάπτυξη υψηλής ποιότητας στο τσιπ της γκοφρέτας.
Παράμετροι SiC Susceptor για MOCVD
Βασικές προδιαγραφές επίστρωσης CVD-SIC |
||
Ιδιότητες SiC-CVD |
||
Κρυσταλλική Δομή |
FCC β φάση |
|
Πυκνότητα |
g/cm ³ |
3.21 |
Σκληρότητα |
Σκληρότητα Vickers |
2500 |
Μέγεθος κόκκου |
μm |
2~10 |
Χημική Καθαρότητα |
% |
99.99995 |
Θερμοχωρητικότητα |
J kg-1 K-1 |
640 |
Θερμοκρασία εξάχνωσης |
℃ |
2700 |
Καμπυλική δύναμη |
MPa (RT 4 σημείων) |
415 |
Young's Modulus |
Gpa (κάμψη 4 pt, 1300℃) |
430 |
Θερμική Διαστολή (C.T.E) |
10-6K-1 |
4.5 |
Θερμική αγωγιμότητα |
(W/mK) |
300 |
Χαρακτηριστικά του SiC Susceptor για MOCVD
- Αποφύγετε το ξεφλούδισμα και εξασφαλίστε την επικάλυψη σε όλη την επιφάνεια
Αντοχή στην οξείδωση σε υψηλή θερμοκρασία: Σταθερό σε υψηλές θερμοκρασίες έως 1600°C
Υψηλή καθαρότητα: γίνεται με εναπόθεση χημικών ατμών CVD υπό συνθήκες χλωρίωσης υψηλής θερμοκρασίας.
Αντοχή στη διάβρωση: υψηλή σκληρότητα, πυκνή επιφάνεια και λεπτά σωματίδια.
Αντοχή στη διάβρωση: οξέα, αλκάλια, άλατα και οργανικά αντιδραστήρια.
- Επιτύχετε το καλύτερο μοτίβο στρωτή ροής αερίου
- Εγγύηση ομοιομορφίας του θερμικού προφίλ
- Αποτρέψτε τυχόν μόλυνση ή διάχυση ακαθαρσιών