Επαγωγικά συζευγμένο πλάσμα (ICP)

Ο επικαλυμμένος υποδοχέας καρβιδίου πυριτίου της Semicorex για επαγωγικά συζευγμένο πλάσμα (ICP) έχει σχεδιαστεί ειδικά για διαδικασίες χειρισμού πλακιδίων υψηλής θερμοκρασίας, όπως η επιταξία και το MOCVD. Με σταθερή αντίσταση στην οξείδωση σε υψηλή θερμοκρασία έως και 1600°C, οι φορείς μας εξασφαλίζουν ομοιόμορφα θερμικά προφίλ, στρωτά μοτίβα ροής αερίων και αποτρέπουν τη μόλυνση ή τη διάχυση ακαθαρσιών.

Αποστολή Ερώτησης

περιγραφή προϊόντος

Χρειάζεστε ένα φορέα γκοφρέτας που να μπορεί να χειριστεί υψηλές θερμοκρασίες, σκληρά χημικά περιβάλλοντα; Μην κοιτάξετε πέρα από τον επικαλυμμένο με καρβίδιο του πυριτίου υποδοχέα για επαγωγικά συζευγμένο πλάσμα (ICP) της Semicorex. Οι φορείς μας διαθέτουν λεπτή επικάλυψη κρυστάλλου SiC που παρέχει ανώτερη αντοχή στη θερμότητα, ακόμη και θερμική ομοιομορφία και ανθεκτική χημική αντοχή.
Επικοινωνήστε μαζί μας σήμερα για να μάθετε περισσότερα σχετικά με τον υποδοχέα SiC για επαγωγικά συζευγμένο πλάσμα (ICP).

Παράμετροι υποδοχέα για επαγωγικά συζευγμένο πλάσμα (ICP)

Βασικές προδιαγραφές επίστρωσης CVD-SIC
Ιδιότητες SiC-CVD
Κρυσταλλική Δομή	FCC β φάση
Πυκνότητα	g/cm ³	3.21
Σκληρότητα	Σκληρότητα Vickers	2500
Μέγεθος κόκκου	μm	2~10
Χημική Καθαρότητα	%	99.99995
Θερμοχωρητικότητα	J kg-1 K-1	640
Θερμοκρασία εξάχνωσης	℃	2700
Καμπτική δύναμη	MPa (RT 4 σημείων)	415
Young's Modulus	Gpa (κάμψη 4 pt, 1300℃)	430
Θερμική Διαστολή (C.T.E)	10-6K-1	4.5
Θερμική αγωγιμότητα	(W/mK)	300