Δακτύλιοι άνω γείωσης με επίστρωση CVD SiC

CVD SiC-Οι επικαλυμμένοι άνω δακτύλιοι γείωσης εγκαθίστανται τυπικά στην άνω περιοχή του θαλάμου αντίδρασης σε εξοπλισμό χάραξης πλάσματος, που περιβάλλουν το ηλεκτροστατικό τσοκ πλακιδίων. Οι άνω δακτύλιοι εδάφους με επικάλυψη CVD SiC είναι ζωτικής σημασίας για ολόκληρο το σύστημα χάραξης, το οποίο μπορεί να λειτουργήσει ως φυσικό εμπόδιο για την προστασία των εξαρτημάτων της συσκευής από προσβολή πλάσματος και τη ρύθμιση του εσωτερικού ηλεκτρικού πεδίου και τον περιορισμό του εύρους κατανομής του πλάσματος για να εξασφαλίσει ομοιόμορφα αποτελέσματα χάραξης.

Η χάραξη πλάσματος είναι μια τεχνολογία ξηρής χάραξης που χρησιμοποιείται ευρέως στην κατασκευή ημιαγωγών, η οποία λειτουργεί χρησιμοποιώντας φυσικές και χημικές αλληλεπιδράσεις μεταξύ του πλάσματος και της επιφάνειας των ημιαγωγικών υλικών για την επιλεκτική αφαίρεση συγκεκριμένων περιοχών, επιτυγχάνοντας έτσι την επεξεργασία δομών ακριβείας. Στο απαιτητικό περιβάλλον της χάραξης πλάσματος, το πλάσμα υψηλής ενέργειας προκαλεί επιθετική διάβρωση και προσβολή σε εξαρτήματα μέσα στο θάλαμο αντίδρασης. Για να διασφαλιστεί η αξιόπιστη και αποτελεσματική λειτουργία, τα εξαρτήματα του θαλάμου πρέπει να έχουν εξαιρετική αντοχή στη διάβρωση, μηχανικές ιδιότητες και χαρακτηριστικά χαμηλής μόλυνσης. Οι άνω δακτύλιοι εδάφους με επίστρωση Semicorex CVD SiC είναι τέλεια σχεδιασμένοι για να αντιμετωπίζουν αυτά τα σκληρά, υψηλής διάβρωσης περιβάλλοντα λειτουργίας.

Αξιόπιστη επίστρωση CVD SiC

Για καλύτερη απόδοση στις σκληρές συνθήκες χάραξης, οι δακτύλιοι άνω γείωσης με επίστρωση CVD SiC Semicorex καλύπτονται με επίστρωση CVD SiC υψηλής απόδοσης, η οποία ενισχύει περαιτέρω την απόδοση και την αντοχή τους.

1. Εξαιρετικά υψηλή καθαρότητα

ΟΕπικάλυψη SiCπου κατασκευάζεται μέσω της διαδικασίας CVD διαθέτει εξαιρετική συμπύκνωση με εξαιρετικά υψηλή καθαρότητα (η καθαρότητα υπερβαίνει το 99,9999%), η οποία μπορεί να αποτρέψει τους άνω δακτυλίους εδάφους επικαλυμμένους με Semicorex CVD SiC από επίθεση πλάσματος υψηλής ενέργειας σε εφαρμογές χάραξης, αποφεύγοντας έτσι τη μόλυνση που προκαλείται από σωματίδια ακαθαρσίας από μήτρες.

2. Βελτιωμένη αντοχή στη διάβρωση

Η επίστρωση SiC που κατασκευάζεται μέσω της διαδικασίας CVD προσφέρει βελτιωμένη αντοχή στη διάβρωση, κάνοντας τους άνω δακτυλίους εδάφους με επίστρωση CVD Semicorex να αντέχουν αποτελεσματικά την πρόκληση διάβρωσης από το πλάσμα (ειδικά διαβρωτικά αέρια όπως αλογόνα και φθόριο).

3. Βελτιωμένες μηχανικές ιδιότητες

Οι άνω δακτύλιοι εδάφους με επίστρωση CVD SiC Semicorex μπορούν να αντέξουν τον έντονο βομβαρδισμό πλάσματος, τη μηχανική καταπόνηση και τον συχνό χειρισμό χωρίς παραμόρφωση ή θραύση κατά τη μακροχρόνια συντήρηση, χάρη στην ενισχυμένη σκληρότητα και αντοχή στη φθορά της επίστρωσης CVD SiC.

Επεξεργασία υψηλών προδιαγραφών και έλεγχος ποιότητας

Για να προσαρμοστούν τέλεια στις απαιτητικές συνθήκες χάραξης ημιαγωγών, οι δακτύλιοι άνω γείωσης με επίστρωση CVD SiC Semicorex υποβάλλονται σε κατεργασία ακριβείας και αυστηρή επιθεώρηση.

Επεξεργασία επιφάνειας: Η ακρίβεια στίλβωσης είναι Ra < 0,1μm. Η ακρίβεια λεπτής λείανσης είναι Ra > 0,1μm

Η ακρίβεια επεξεργασίας ελέγχεται εντός ≤ 0,03 mm

Ποιοτικός έλεγχος:

Οι στερεοί δακτύλιοι Semicorex CVD SiC υπόκεινται σε ανάλυση ICP-MS (επαγωγικά συζευγμένη φασματομετρία μάζας πλάσματος).