Θήκη γκοφρέτας

Το Semicorex Wafer Holder είναι έξυπνα κατασκευασμένο με έναν πυρήνα κατασκευασμένο από γραφίτη υψηλής καθαρότητας και σχολαστικά επικαλυμμένο με καρβίδιο του πυριτίου (SiC) για να καλύψει τις απαιτητικές απαιτήσεις του εξοπλισμού Liquid Phase Epitaxy (LPE). Η κατασκευή και η επιλογή του υλικού είναι απολύτως ζωτικής σημασίας για τη διατήρηση της ακεραιότητας των γκοφρετών κατά τις διαδικασίες υψηλής θερμοκρασίας που είναι εγγενείς στην κατασκευή ημιαγωγών.

Η βάση γραφίτη με επίστρωση SiC επιδεικνύει εξαιρετική αντοχή στη φθορά, ένα ζωτικό χαρακτηριστικό για τη διατήρηση των ακριβών διαστάσεων και ποιότητας επιφάνειας που απαιτούνται για βέλτιστο χειρισμό της γκοφρέτας. Στις διεργασίες LPE, η ακεραιότητα της επιφάνειας της θήκης Wafer είναι πρωταρχικής σημασίας, καθώς οποιαδήποτε υποβάθμιση ή ανομοιομορφία θα μπορούσε να οδηγήσει σε ελαττώματα στη γκοφρέτα, οδηγώντας σε χαμηλότερες αποδόσεις και αυξημένη σπατάλη. Η επίστρωση SiC διασφαλίζει ότι η θήκη Wafer διατηρεί μια λεία, σταθερή επιφάνεια σε επαναλαμβανόμενους κύκλους, συμβάλλοντας στη συνολική αξιοπιστία και συνέπεια της διαδικασίας επιταξίας.

Επιπλέον, η επίστρωση SiC ενισχύει τη θερμική απόδοση της θήκης Wafer. Η υψηλή θερμική αγωγιμότητα του καρβιδίου του πυριτίου εξασφαλίζει ομοιόμορφη κατανομή θερμότητας σε όλη τη γκοφρέτα κατά τη διαδικασία της επιταξίας, ζωτικής σημασίας για την αποφυγή θερμικών κλίσεων που θα μπορούσαν να προκαλέσουν παραμόρφωση ή ράγισμα των πλακιδίων. Αυτό εγγυάται ότι τα τελικά προϊόντα πληρούν τα αυστηρά πρότυπα ποιότητας που απαιτούνται στην κατασκευή ημιαγωγών. Ο συνδυασμός των εγγενών θερμικών ιδιοτήτων του γραφίτη με τα πρόσθετα πλεονεκτήματα της επίστρωσης SiC δημιουργεί μια θήκη Wafer ικανή να αντέχει στα πιο δύσκολα θερμικά περιβάλλοντα.

Ο σχεδιασμός του Wafer Holder είναι βελτιστοποιημένος για την εφαρμογή του σε εξοπλισμό LPE. Η θήκη γκοφρέτας είναι επεξεργασμένη με ακρίβεια για να χωράει τις γκοφρέτες με ασφάλεια, ελαχιστοποιώντας τον κίνδυνο κίνησης ή κακής ευθυγράμμισης κατά τη διαδικασία της επιταξίας. Αυτή η ακρίβεια είναι κρίσιμη, καθώς ακόμη και η παραμικρή μετατόπιση στη θέση του πλακιδίου μπορεί να οδηγήσει σε ανομοιόμορφη εναπόθεση, επηρεάζοντας την απόδοση των συσκευών ημιαγωγών που κατασκευάζονται. Η βάση γραφίτη με επίστρωση SiC παρέχει την απαραίτητη σταθερότητα, διασφαλίζοντας ότι οι γκοφρέτες παραμένουν στη σωστή θέση σε όλη τη διάρκεια της διαδικασίας.

                                                        Δομή LEP, από LPE