Το Semicorex Monocrystalline Silicon Wafer Susceptor είναι η ιδανική λύση για επιτάξεις γραφίτη και διαδικασίες χειρισμού πλακιδίων. Το εξαιρετικά καθαρό προϊόν μας εξασφαλίζει ελάχιστη μόλυνση και εξαιρετική απόδοση μεγάλης διάρκειας, καθιστώντας το μια δημοφιλή επιλογή σε πολλές ευρωπαϊκές και αμερικανικές αγορές. Ως κορυφαίος πάροχος φορέων γκοφρέτας ημιαγωγών στην Κίνα, ανυπομονούμε να γίνουμε ο μακροπρόθεσμος συνεργάτης σας.
Το Monocrystalline Silicon epitaxial Susceptor είναι ένα προϊόν γραφίτη επικαλυμμένο με SiC υψηλής καθαρότητας, το οποίο έχει υψηλή αντοχή στη θερμότητα και τη διάβρωση. Ο φορέας με επίστρωση καρβιδίου του πυριτίου CVD χρησιμοποιείται σε διαδικασίες που σχηματίζουν το επιταξιακό στρώμα σε γκοφρέτες ημιαγωγών. Έχει υψηλή θερμική αγωγιμότητα και εξαιρετικές ιδιότητες κατανομής θερμότητας, οι οποίες είναι απαραίτητες για αποτελεσματικές και ακριβείς διαδικασίες παραγωγής ημιαγωγών.
Ένα από τα βασικά χαρακτηριστικά του Monocrystalline Silicon Wafer Susceptor είναι η εξαιρετική του πυκνότητα. Τόσο το υπόστρωμα γραφίτη όσο και το στρώμα καρβιδίου του πυριτίου έχουν καλή πυκνότητα και μπορούν να παίξουν καλό προστατευτικό ρόλο σε περιβάλλοντα εργασίας με υψηλή θερμοκρασία και διαβρωτικά. Ο επικαλυμμένος υποδοχέας καρβιδίου πυριτίου που χρησιμοποιείται για την ανάπτυξη μονοκρυστάλλων έχει πολύ υψηλή επιπεδότητα επιφάνειας, η οποία είναι απαραίτητη για τη διατήρηση υψηλής ποιότητας παραγωγής γκοφρέτας.
Ένα άλλο σημαντικό χαρακτηριστικό του προϊόντος μας είναι η ικανότητά του να μειώνει τη διαφορά στο συντελεστή θερμικής διαστολής μεταξύ του υποστρώματος γραφίτη και του στρώματος καρβιδίου του πυριτίου. Αυτό βελτιώνει αποτελεσματικά την αντοχή συγκόλλησης, αποτρέποντας το ράγισμα και την αποκόλληση. Επιπλέον, τόσο το υπόστρωμα γραφίτη όσο και το στρώμα καρβιδίου του πυριτίου έχουν υψηλή θερμική αγωγιμότητα και εξαιρετικές ιδιότητες κατανομής θερμότητας, διασφαλίζοντας ότι η θερμότητα κατανέμεται ομοιόμορφα κατά τη διάρκεια της διαδικασίας κατασκευής.
Το Monocrystalline Silicon Wafer Susceptor μας είναι επίσης ανθεκτικό στην οξείδωση και τη διάβρωση σε υψηλή θερμοκρασία, καθιστώντας το ένα αξιόπιστο και ανθεκτικό προϊόν. Το υψηλό σημείο τήξης του εξασφαλίζει ότι μπορεί να αντέξει το περιβάλλον υψηλής θερμοκρασίας που απαιτείται για την αποτελεσματική κατασκευή ημιαγωγών.
Συμπερασματικά, το Semicorex Monocrystalline Silicon Wafer Susceptor είναι μια εξαιρετικά καθαρή, ανθεκτική και αξιόπιστη λύση για διαδικασίες επιτάξεως γραφίτη και χειρισμού γκοφρετών. Η εξαιρετική του πυκνότητα, η επιπεδότητα της επιφάνειας και η θερμική αγωγιμότητα το καθιστούν ιδανικό για χρήση σε περιβάλλοντα υψηλής θερμοκρασίας και διαβρωτικά. Είμαστε υπερήφανοι που παρέχουμε προϊόντα υψηλής ποιότητας σε ανταγωνιστικές τιμές και ανυπομονούμε να συνεργαστούμε μαζί σας για όλες τις ανάγκες μεταφοράς γκοφρέτας ημιαγωγών.
Παράμετροι Μονοκρυσταλλικού Πυριτίου Γκοφρέτας
Βασικές προδιαγραφές επίστρωσης CVD-SIC |
||
Ιδιότητες SiC-CVD |
||
Κρυσταλλική Δομή |
FCC β φάση |
|
Πυκνότητα |
g/cm ³ |
3.21 |
Σκληρότητα |
Σκληρότητα Vickers |
2500 |
Μέγεθος κόκκου |
μm |
2~10 |
Χημική Καθαρότητα |
% |
99.99995 |
Θερμοχωρητικότητα |
J kg-1 K-1 |
640 |
Θερμοκρασία εξάχνωσης |
℃ |
2700 |
Καμπτική δύναμη |
MPa (RT 4 σημείων) |
415 |
Young's Modulus |
Gpa (κάμψη 4 pt, 1300℃) |
430 |
Θερμική Διαστολή (C.T.E) |
10-6K-1 |
4.5 |
Θερμική αγωγιμότητα |
(W/mK) |
300 |
Χαρακτηριστικά του Monocrystalline Silicon Wafer Susceptor
- Αποφύγετε το ξεφλούδισμα και εξασφαλίστε την επικάλυψη σε όλη την επιφάνεια
Αντοχή στην οξείδωση σε υψηλή θερμοκρασία: Σταθερό σε υψηλές θερμοκρασίες έως 1600°C
Υψηλή καθαρότητα: γίνεται με εναπόθεση χημικών ατμών CVD υπό συνθήκες χλωρίωσης υψηλής θερμοκρασίας.
Αντοχή στη διάβρωση: υψηλή σκληρότητα, πυκνή επιφάνεια και λεπτά σωματίδια.
Αντοχή στη διάβρωση: οξέα, αλκάλια, άλατα και οργανικά αντιδραστήρια.
- Επιτύχετε το καλύτερο μοτίβο στρωτή ροής αερίου
- Εγγύηση ομοιομορφίας του θερμικού προφίλ
- Αποτρέψτε τυχόν μόλυνση ή διάχυση ακαθαρσιών