Το Epitaxial Single-crystal Si Plate ενσωματώνει το ζενίθ της φινέτσας, της ανθεκτικότητας και της αξιοπιστίας για εφαρμογές που σχετίζονται με την επιταξία γραφίτη και τον χειρισμό γκοφρέτας. Διακρίνεται για την πυκνότητα, την επιπεδότητα και τις ικανότητες διαχείρισης θερμότητας, τοποθετώντας το ως τη βέλτιστη επιλογή για αυστηρές συνθήκες λειτουργίας. Η δέσμευση της Semicorex για κορυφαία ποιότητα στην αγορά, σε συνδυασμό με ανταγωνιστικά δημοσιονομικά ζητήματα, ενισχύει την προθυμία μας να δημιουργήσουμε συνεργασίες για την εκπλήρωση των απαιτήσεων μεταφοράς γκοφρετών ημιαγωγών.
Ένα πρωταρχικό χαρακτηριστικό της Επιταξιακής μονοκρυσταλλικής πλάκας Si έγκειται στην ανώτερη πυκνότητά της. Η ενσωμάτωση ενός υποστρώματος γραφίτη με επίστρωση καρβιδίου του πυριτίου αποδίδει μια ολοκληρωμένη πυκνότητα που είναι ικανή να προστατεύει από τις αυστηρές συνθήκες που συναντώνται σε περιβάλλοντα υψηλής θερμοκρασίας και διαβρωτικότητας. Επιπλέον, ο επικαλυμμένος με καρβίδιο του πυριτίου υποδοχέας, που είναι προσαρμοσμένος για τη σύνθεση μονοκρυστάλλων, διαθέτει εξαιρετικά ομοιόμορφο προφίλ επιφάνειας – κρίσιμος καθοριστικός παράγοντας για τη διαρκή παραγωγή γκοφρετών άψογης ποιότητας.
Εξίσου ζωτικής σημασίας για το σχεδιασμό του προϊόντος μας είναι ο μετριασμός των διαφορών θερμικής διαστολής μεταξύ του πυρήνα του γραφίτη και της επικάλυψης από καρβίδιο του πυριτίου. Μια τέτοια καινοτομία αυξάνει σημαντικά την στιβαρότητα της κόλλας, παρακάμπτοντας έτσι τα φαινόμενα των ρωγμών και της στρωματοποίησης. Σε συγχρονισμό με αυτό, το Epitaxial Single-crystal Si Plate παρουσιάζει αυξημένη θερμική αγωγιμότητα, σε συνδυασμό με μια αξιέπαινη τάση για ομοιόμορφη κατανομή θερμότητας – παράγοντες που είναι καθοριστικοί για την επίτευξη ομοιογένειας της θερμοκρασίας κατά τη διάρκεια του κύκλου παραγωγής.
Επιπλέον, η Επιταξιακή πλάκα Si μονοκρυστάλλου επιδεικνύει αξιέπαινη ανθεκτικότητα στην οξειδωτική και διαβρωτική αποικοδόμηση σε υψηλές θερμοκρασίες, υποστηρίζοντας τη μακροζωία και την αξιοπιστία της. Το κατώφλι του για θερμική αντοχή υπογραμμίζεται από ένα σημαντικό σημείο τήξης, διασφαλίζοντας έτσι την ικανότητά του να αντέξει το απαιτητικό θερμικό περιβάλλον που είναι εγγενές στην άρτια κατασκευή ημιαγωγών