Ο δίσκος Wafer Semicorex με επίστρωση SiC αντιπροσωπεύει μια κορυφαία πρόοδο στην τεχνολογία κατασκευής ημιαγωγών, διαδραματίζοντας ουσιαστικό ρόλο στη σύνθετη διαδικασία κατασκευής ημιαγωγών. Σχεδιασμένος με σχολαστική ακρίβεια, αυτός ο δίσκος είναι κατασκευασμένος από ανώτερο γραφίτη επικαλυμμένο με SiC, παρέχοντας εξαιρετική απόδοση και ανθεκτικότητα για εφαρμογές επιταξίας πυριτίου. Εμείς στη Semicorex είμαστε αφοσιωμένοι στην κατασκευή και παροχή δίσκων γκοφρέτας με επικάλυψη SiC υψηλής απόδοσης που συνδυάζει την ποιότητα με την οικονομική απόδοση.
Η βάση του δίσκου γκοφρέτας με επίστρωση SiC Semicorex αποτελείται από γραφίτη υψηλής ποιότητας, επικαλυμμένο με επιδεξιότητα με SiC Chemical Vapor Deposition (CVD). Αυτή η προηγμένη κατασκευή παρέχει εξαιρετική αντοχή σε θερμικά χτυπήματα και χημική υποβάθμιση, επεκτείνοντας σημαντικά τη διάρκεια ζωής του δίσκου Wafer με επικάλυψη SiC και διασφαλίζοντας αξιόπιστη απόδοση σε όλη τη διαδικασία κατασκευής ημιαγωγών.
Συγκεκριμένα, ο δίσκος Wafer με επίστρωση SiC υπερέχει στη θερμική αγωγιμότητα, η οποία είναι κρίσιμη για την αποτελεσματική απαγωγή θερμότητας κατά την κατασκευή ημιαγωγών. Αυτό το χαρακτηριστικό ελαχιστοποιεί τις θερμικές κλίσεις σε όλη την επιφάνεια του πλακιδίου, προάγοντας την ομοιόμορφη κατανομή θερμοκρασίας που είναι απαραίτητη για την επίτευξη των επιθυμητών χαρακτηριστικών ημιαγωγών.
Η επίστρωση SiC προσφέρει ισχυρή προστασία από τη χημική διάβρωση και το θερμικό σοκ, διατηρώντας την ακεραιότητα του δίσκου Wafer με επίστρωση SiC ακόμη και σε σκληρά περιβάλλοντα διεργασιών. Αυτή η βελτιωμένη ανθεκτικότητα έχει ως αποτέλεσμα μεγαλύτερη διάρκεια ζωής και μειωμένο χρόνο διακοπής λειτουργίας, συμβάλλοντας στην αύξηση της παραγωγικότητας και της αποδοτικότητας κόστους στις εγκαταστάσεις κατασκευής ημιαγωγών.
Επιπλέον, ο δίσκος γκοφρέτας με επίστρωση SiC μπορεί να προσαρμοστεί ώστε να πληροί συγκεκριμένες απαιτήσεις και προτιμήσεις. Παρέχουμε επιλογές προσαρμογής που κυμαίνονται από προσαρμογές μεγέθους έως διακυμάνσεις στο πάχος της επίστρωσης, επιτρέποντας ευελιξία σχεδιασμού που βελτιστοποιεί την απόδοση σε διαφορετικές εφαρμογές και παραμέτρους διαδικασίας.