Το Semicorex SiC Coated Barrel Susceptor for LPE Epitaxial Growth είναι ένα προϊόν υψηλής απόδοσης που έχει σχεδιαστεί για να παρέχει σταθερή και αξιόπιστη απόδοση για μεγάλο χρονικό διάστημα. Το ομοιόμορφο θερμικό του προφίλ, η στρωτή ροή αερίου και η πρόληψη της μόλυνσης το καθιστούν ιδανική επιλογή για την ανάπτυξη επιταξιακών στρωμάτων υψηλής ποιότητας σε τσιπς γκοφρέτας. Η δυνατότητα προσαρμογής και η οικονομική του αποδοτικότητα το καθιστούν ένα εξαιρετικά ανταγωνιστικό προϊόν στην αγορά.
Διαβάστε περισσότεραΑποστολή ΕρώτησηςΤο Semicorex Barrel Susceptor Epi System είναι ένα προϊόν υψηλής ποιότητας που προσφέρει ανώτερη πρόσφυση επίστρωσης, υψηλή καθαρότητα και αντοχή στην οξείδωση σε υψηλή θερμοκρασία. Το ομοιόμορφο θερμικό του προφίλ, η στρωτή ροή αερίου και η πρόληψη της μόλυνσης το καθιστούν ιδανική επιλογή για την ανάπτυξη επιξικών στρωμάτων σε τσιπς γκοφρέτας. Η σχέση κόστους-αποτελεσματικότητας και η δυνατότητα προσαρμογής του το καθιστούν ένα εξαιρετικά ανταγωνιστικό προϊόν στην αγορά.
Διαβάστε περισσότεραΑποστολή ΕρώτησηςΤο Semicorex Liquid Phase Epitaxy (LPE) Reactor System είναι ένα καινοτόμο προϊόν που προσφέρει εξαιρετική θερμική απόδοση, ομοιόμορφο θερμικό προφίλ και ανώτερη πρόσφυση επίστρωσης. Η υψηλή καθαρότητα, η αντοχή στην οξείδωση σε υψηλή θερμοκρασία και η αντοχή στη διάβρωση το καθιστούν ιδανική επιλογή για χρήση στη βιομηχανία ημιαγωγών. Οι προσαρμόσιμες επιλογές και η οικονομική του αποδοτικότητα το καθιστούν ένα εξαιρετικά ανταγωνιστικό προϊόν στην αγορά.
Διαβάστε περισσότεραΑποστολή ΕρώτησηςΤο Semicorex CVD Epitaxial Deposition In Barrel Reactor είναι ένα εξαιρετικά ανθεκτικό και αξιόπιστο προϊόν για την ανάπτυξη επιξιακών στρωμάτων σε τσιπς γκοφρέτας. Η αντοχή στην οξείδωση σε υψηλή θερμοκρασία και η υψηλή καθαρότητά του το καθιστούν κατάλληλο για χρήση στη βιομηχανία ημιαγωγών. Το ομοιόμορφο θερμικό προφίλ του, το μοτίβο στρωτή ροής αερίου και η πρόληψη μόλυνσης το καθιστούν ιδανική επιλογή για υψηλής ποιότητας ανάπτυξη επιξιακής στιβάδας.
Διαβάστε περισσότεραΑποστολή ΕρώτησηςΕάν χρειάζεστε έναν υποδοχέα γραφίτη υψηλής απόδοσης για χρήση σε εφαρμογές κατασκευής ημιαγωγών, το Semicorex Silicon Epitaxial Deposition In Barrel Reactor είναι η ιδανική επιλογή. Η επίστρωση SiC υψηλής καθαρότητας και η εξαιρετική θερμική αγωγιμότητα παρέχουν ανώτερες ιδιότητες προστασίας και κατανομής θερμότητας, καθιστώντας το την ιδανική επιλογή για αξιόπιστη και σταθερή απόδοση ακόμη και στα πιο δύσκολα περιβάλλοντα.
Διαβάστε περισσότεραΑποστολή ΕρώτησηςΕάν χρειάζεστε έναν υποδοχέα γραφίτη με εξαιρετικές ιδιότητες θερμικής αγωγιμότητας και κατανομής θερμότητας, μην ψάξετε περισσότερο από το σύστημα επαγωγικής θέρμανσης βαρελιού Epi Semicorex. Η επίστρωση SiC υψηλής καθαρότητας του παρέχει ανώτερη προστασία σε περιβάλλοντα υψηλής θερμοκρασίας και διαβρωτικά, καθιστώντας το την ιδανική επιλογή για χρήση σε εφαρμογές κατασκευής ημιαγωγών.
Διαβάστε περισσότεραΑποστολή Ερώτησης