Συστατικά επικαλυμμένα με TaC στην επιταξιακή ανάπτυξη

Τα επικαλυμμένα εξαρτήματα Semicorex TaC σε επιταξιακή ανάπτυξη είναι ένα ορθογώνιο τμήμα σε σχήμα σωλήνα, το τμήμα είναι κυρίως υπεύθυνο για την πρόοδο εισαγωγής αέρα στον κλίβανο CVD. Είναι λοιπόν απαραίτητο συστατικό, και αντιμετωπίζοντας ένα αυστηρό περιβάλλον, η θερμοκρασία είναι υψηλή επίσης υπάρχουν διαβρωτικά αέρια. Αναδεικνύει τον λόγο που επιλέγουμε τον γραφίτη με επίστρωση TaC.

Επιπτώσεις στον ΠελάτηΕπικάλυψη καρβιδίου τανταλίου (TaC).

Οι επικαλύψεις καρβιδίου του τανταλίου (TaC) απαιτούνται για μερικά από τα πιο κρίσιμα μέρη των συστημάτων εισαγωγής αέρα που έχουν σχεδιαστεί για χρήση σε σκληρές συνθήκες όπως αυτές που βρίσκονται μέσα σε έναν κλίβανο Εναπόθεσης Χημικών Ατμών (CVD). Η υψηλή θερμοκρασία και η έκθεση σε διαβρωτικά αέρια που βρίσκονται σε έναν κλίβανο CVD δημιουργούν ένα πολύ δύσκολο περιβάλλον εργασίας. Με τη δυνατότητά του να παρέχει εξαιρετική χημική αδράνεια και να αντιστέκεται στη διάβρωση και την υποβάθμιση, η χρήση επικαλύψεων TaC σε εξαρτήματα με επικάλυψη TaC εισαγωγής αέρα στην επιταξιακή ανάπτυξη θα μειώσει σημαντικά την πιθανότητα δημιουργίας ελαττωματικών σωματιδίων, επεκτείνοντας έτσι τη διάρκεια ζωής του εξαρτήματος και παρέχοντας την υψηλότερη απόδοση και ποιότητα των μεμβρανών του επιθηλίου.

Αριστεία τεχνολογίας επίστρωσης

Το Semicorex χρησιμοποιεί προηγμένη τεχνολογία CVD για την κατασκευήΣυστατικά επικαλυμμένα με TaC σε επιταξιακή ανάπτυξηνα ανταποκρίνεται στα πιο απαιτητικά βιομηχανικά πρότυπα του σήμερα τόσο για απόδοση όσο και για ποιότητα. Η ακρίβεια με την οποία η Semicorex κατασκευάζει επιστρώσεις TaC είναι εμφανής μέσω της υψηλής ποιότητας των επιστρώσεων που κατασκευάζονται.

Βελτιστοποιημένη Επιλογή Υποστρώματος

Η απόδοση ενός επικαλυμμένου εξαρτήματος είναι θεμελιωδώς συνδεδεμένη με την ποιότητα του υποστρώματος του. Η επιλογή του καταλληλότερου υλικού βάσης γραφίτη για τους ορθογώνιους σωλήνες με επίστρωση TaC της Semicorex γίνεται προσεκτικά από την ομάδα μηχανικών μας ακολουθώντας μια σειρά από σημαντικά κριτήρια, τα οποία είναι τα εξής:

Επιλέγουμε έναν βαθμό γραφίτη με βάση τις φυσικές του ιδιότητες για να επιτύχουμε τον ισχυρότερο δεσμό μεταξύ της επικάλυψης TaC και του υποστρώματος γραφίτη. Αυτό διασφαλίζει ότι υπάρχει μέγιστη πρόσφυση της επίστρωσης TaC στο υπόστρωμα γραφίτη.

Ο γραφίτης που χρησιμοποιείται για την κατασκευή των ορθογώνιων σωλήνων μας με επικάλυψη TaC πρέπει να είναι εξαιρετικά υψηλής καθαρότητας για να ελαχιστοποιηθεί η πιθανότητα εξάτμισης αερίων και μόλυνσης κατά τη διαδικασία CVD σε υψηλή θερμοκρασία.

Οι αυστηρές διαδικασίες προμήθειας και ελέγχου ποιότητας διασφαλίζουν ότι κάθε παρτίδα υποστρώματος γραφίτη που χρησιμοποιούμε έχει τα ίδια χαρακτηριστικά υλικού. Αυτό μας επιτρέπει να παράγουμε κάθε φορά έναν ορθογώνιο σωλήνα με επίστρωση TaC, με τα ίδια χαρακτηριστικά απόδοσης.

Αποδεδειγμένη αξιοπιστία και συνεργασία

Τα εξαρτήματά μας με επίστρωση TaC σε επιταξιακή ανάπτυξη έχουν δοκιμαστεί και εγκριθεί εκτενώς από πολλούς από τους μεγαλύτερους και πιο αξιοσέβαστους κατασκευαστές στη βιομηχανία ημιαγωγών. Αυτοί οι κατασκευαστές έχουν καθιερώσει τα προϊόντα Semicorex ως αξιόπιστα πρότυπα για χρήση στις κρίσιμες εφαρμογές της επιταξιακής ανάπτυξης.

Αναγνωρίζουμε ότι η προμήθεια εξαρτημάτων αποτελεί σημαντικό στοιχείο της παραγωγικής σας διαδικασίας. Αυτός είναι ο λόγος για τον οποίο η Semicorex έχει δεσμευτεί να είναι μακροπρόθεσμος συνεργάτης παρέχοντας υψηλής ποιότητας και αξιόπιστη προμήθεια προϊόντων και υπερέχοντας στην παροχή logistics και υποστήριξης μετά την πώληση για να διατηρεί την επιχείρησή σας ομαλή και αδιάκοπη ροή.