Χαλαζία Melting Pot

Επί του παρόντος, τοδοχείο τήξης χαλαζίαγια την ανάπτυξη κρυστάλλων που χρησιμοποιείται στη βιομηχανία κατασκευής γκοφρέτας αποτελείται από μια σύνθετη δομή τριών στρωμάτων. Αυτή η δομή τριών στρωμάτων επιτρέπει στο δοχείο τήξης χαλαζία να διατηρεί το σχήμα και την ακεραιότητά του ακόμα και όταν υπόκειται σε διαφορετικούς βαθμούς θερμικής βαθμίδας αλλαγών κατά τη διάρκεια της διαδικασίας έλξης κρυστάλλων. Σε σύγκριση με την παραδοσιακή δομή δύο στρωμάτων, η δομή τριών στρωμάτων προσφέρει καλύτερη μηχανική αντοχή, θερμική διαχείριση και οικονομική απόδοση και βελτιωμένα χαρακτηριστικά μεταφοράς θερμότητας. 

Το αδιαφανές στρώμα είναι το εξωτερικό στρώμα του δοχείου τήξης χαλαζία, με μεγάλο αριθμό φυσαλίδων ομοιόμορφα κατανεμημένες, οι οποίες μπορούν να έχουν αποτέλεσμα διατήρησης θερμότητας για να εξασφαλίσουν ομοιόμορφη θερμότητα του δοχείου τήξης χαλαζία. Το διαφανές στρώμα κενού στη μέση έχει σχετικά χαμηλή περιεκτικότητα σε φυσαλίδες, ομοιόμορφη πυκνότητα, δεν είναι εύκολο να παραμορφωθεί και διαχωρίζει το υγρό τήγματος πυριτίου από το στρώμα φυσαλίδων. Η εσωτερική επίστρωση είναι συνήθως κατασκευασμένη από συνθετικό χαλαζία υψηλής καθαρότητας. Τα δοχεία τήξης χαλαζία απαιτούν υψηλές απαιτήσεις για την καθαρότητα του χαλαζία που χρησιμοποιείται για την εσωτερική επίστρωση, επειδή αυτό καθορίζει την ποιότητα των κρυστάλλων που αφαιρούνται.

Η επιλεγμένη υψηλή ποιότητα της Semicorexχαλαζίαςσυμβάλλει στον έλεγχο της μόλυνσης και εξασφαλίζει σταθερές συνθήκες ανάπτυξης κρυστάλλων.

Τα δοχεία τήξης χαλαζία είναι βασικά αναλώσιμα που χρησιμοποιούνται ευρέως στη βιομηχανία ημιαγωγών και φωτοβολταϊκών. Καθώς τα μόνα συστατικά έρχονται σε άμεση επαφή με το υγρό τήγματος πυριτίου, η καθαρότητά τους επηρεάζει την ποιότητα και το κόστος του . Με υψηλή καθαρότητα, εξαιρετική αντοχή σε υψηλές θερμοκρασίες, ανώτερη θερμική σταθερότητα, εξαιρετική αντοχή και διάφορα διαθέσιμα μεγέθη, τα δοχεία τήξης χαλαζία Semicorex για ανάπτυξη κρυστάλλων Si είναι η ιδανική επιλογή.