Το Semicorex CVD Epitaxial Deposition In Barrel Reactor είναι ένα εξαιρετικά ανθεκτικό και αξιόπιστο προϊόν για την ανάπτυξη επιξιακών στρωμάτων σε τσιπς γκοφρέτας. Η αντοχή στην οξείδωση σε υψηλή θερμοκρασία και η υψηλή καθαρότητά του το καθιστούν κατάλληλο για χρήση στη βιομηχανία ημιαγωγών. Το ομοιόμορφο θερμικό προφίλ του, το μοτίβο στρωτή ροής αερίου και η πρόληψη μόλυνσης το καθιστούν ιδανική επιλογή για υψηλής ποιότητας ανάπτυξη επιξιακής στιβάδας.
Διαβάστε περισσότεραΑποστολή ΕρώτησηςΕάν χρειάζεστε έναν υποδοχέα γραφίτη υψηλής απόδοσης για χρήση σε εφαρμογές κατασκευής ημιαγωγών, το Semicorex Silicon Epitaxial Deposition In Barrel Reactor είναι η ιδανική επιλογή. Η επίστρωση SiC υψηλής καθαρότητας και η εξαιρετική θερμική αγωγιμότητα παρέχουν ανώτερες ιδιότητες προστασίας και κατανομής θερμότητας, καθιστώντας το την ιδανική επιλογή για αξιόπιστη και σταθερή απόδοση ακόμη και στα πιο δύσκολα περιβάλλοντα.
Διαβάστε περισσότεραΑποστολή ΕρώτησηςΕάν χρειάζεστε έναν υποδοχέα γραφίτη με εξαιρετικές ιδιότητες θερμικής αγωγιμότητας και κατανομής θερμότητας, μην ψάξετε περισσότερο από το σύστημα επαγωγικής θέρμανσης βαρελιού Epi Semicorex. Η επίστρωση SiC υψηλής καθαρότητας του παρέχει ανώτερη προστασία σε περιβάλλοντα υψηλής θερμοκρασίας και διαβρωτικά, καθιστώντας το την ιδανική επιλογή για χρήση σε εφαρμογές κατασκευής ημιαγωγών.
Διαβάστε περισσότεραΑποστολή ΕρώτησηςΜε τις εξαιρετικές ιδιότητες θερμικής αγωγιμότητας και κατανομής θερμότητας, το Semicorex Barrel Structure for Semiconductor Epitaxial Reactor είναι η τέλεια επιλογή για χρήση σε διαδικασίες LPE και άλλες εφαρμογές κατασκευής ημιαγωγών. Η επίστρωση SiC υψηλής καθαρότητας παρέχει ανώτερη προστασία σε περιβάλλοντα υψηλής θερμοκρασίας και διαβρωτικά.
Διαβάστε περισσότεραΑποστολή ΕρώτησηςΑν ψάχνετε για ένα βαρέλι γραφίτη υψηλής απόδοσης για χρήση σε εφαρμογές κατασκευής ημιαγωγών, το Semicorex SiC Coated Graphite Barrel Susceptor είναι η ιδανική επιλογή. Η εξαιρετική θερμική αγωγιμότητα και οι ιδιότητες κατανομής της θερμότητας το καθιστούν την καλύτερη επιλογή για αξιόπιστη και σταθερή απόδοση σε περιβάλλοντα υψηλής θερμοκρασίας και διαβρωτικά.
Διαβάστε περισσότεραΑποστολή ΕρώτησηςΜε το υψηλό σημείο τήξης, την αντοχή στην οξείδωση και την αντίσταση στη διάβρωση, το Semicorex-Coated Crystal Growth Susceptor είναι η ιδανική επιλογή για χρήση σε εφαρμογές ανάπτυξης μονού κρυστάλλου. Η επίστρωση καρβιδίου του πυριτίου παρέχει εξαιρετικές ιδιότητες επιπεδότητας και κατανομής θερμότητας, καθιστώντας το ιδανική επιλογή για περιβάλλοντα υψηλής θερμοκρασίας.
Διαβάστε περισσότεραΑποστολή Ερώτησης