Κεφαλές ντους CVD SiC

Οι κεφαλές ντους Semicorex CVD SiC χρησιμοποιούνται για χάραξη CCP. Οι χαρακτήρες CCP χρησιμοποιούν δύο παράλληλα ηλεκτρόδια (το ένα γειωμένο, το άλλο συνδεδεμένο σε μια πηγή ισχύος ραδιοσυχνοτήτων) για τη δημιουργία πλάσματος. Το πλάσμα διατηρείται μεταξύ των δύο ηλεκτροδίων από το ηλεκτρικό πεδίο μεταξύ τους. Τα ηλεκτρόδια και η πλάκα διανομής αερίου είναι ενσωματωμένα σε ένα μόνο εξάρτημα. Το αέριο χάραξης ψεκάζεται ομοιόμορφα στην επιφάνεια της πλακέτας μέσω μικρών οπών στις κεφαλές ντους CVD SiC. Ταυτόχρονα, εφαρμόζεται τάση ραδιοσυχνοτήτων στην κεφαλή ντους (επίσης στο επάνω ηλεκτρόδιο). Αυτή η τάση δημιουργεί ένα ηλεκτρικό πεδίο μεταξύ του άνω και του κάτω ηλεκτροδίου, διεγείροντας το αέριο για να σχηματίσει ένα πλάσμα. Αυτός ο σχεδιασμός έχει ως αποτέλεσμα μια απλούστερη και πιο συμπαγή δομή, ενώ εξασφαλίζει ομοιόμορφη κατανομή των μορίων αερίου και ένα ομοιόμορφο ηλεκτρικό πεδίο, επιτρέποντας ομοιόμορφη χάραξη ακόμη και μεγάλων πλακιδίων.

Οι κεφαλές ντους CVD SiC μπορούν επίσης να εφαρμοστούν στη χάραξη ICP. Οι χαρακτήρες ICP χρησιμοποιούν ένα πηνίο επαγωγής (συνήθως ένα σωληνοειδές) για να δημιουργήσουν ένα μαγνητικό πεδίο RF, το οποίο προκαλεί ρεύμα και πλάσμα. Οι κεφαλές ντους CVD SiC, ως ξεχωριστό εξάρτημα, είναι υπεύθυνες για την ομοιόμορφη παροχή του αερίου χάραξης στην περιοχή του πλάσματος.

Η κεφαλή ντους CVD SiC είναι ένα εξάρτημα υψηλής καθαρότητας και κατασκευής ακριβείας για εξοπλισμό επεξεργασίας ημιαγωγών που είναι θεμελιώδες για τη διανομή αερίου και την ικανότητα ηλεκτροδίων. Χρησιμοποιώντας την κατασκευή χημικής εναπόθεσης ατμών (CVD), η κεφαλή ντους επιτυγχάνει εξαίρεση

καθαρότητα υλικών και εξαιρετικός έλεγχος διαστάσεων που ικανοποιεί τις αυστηρές απαιτήσεις της μελλοντικής κατασκευής ημιαγωγών.