Κλίβανοι εναπόθεσης χημικών ατμών CVD

Οι φούρνοι εναπόθεσης ατμών Semicorex CVD Chemical καθιστούν την κατασκευή επιταξίας υψηλής ποιότητας πιο αποτελεσματική. Παρέχουμε προσαρμοσμένες λύσεις φούρνου. Οι κάμινοι μας CVD Chemical Vapor Deposition έχουν καλό πλεονέκτημα τιμής και καλύπτουν το μεγαλύτερο μέρος της ευρωπαϊκής και αμερικανικής αγοράς. Ανυπομονούμε να γίνουμε ο μακροπρόθεσμος συνεργάτης σας στην Κίνα.

Αποστολή Ερώτησης

περιγραφή προϊόντος

Οι κάμινοι εναπόθεσης χημικών ατμών Semicorex CVD σχεδιασμένοι για CVD και CVI χρησιμοποιούνται για την εναπόθεση υλικών σε ένα υπόστρωμα. Οι θερμοκρασίες αντίδρασης έως 2200°C. Οι έλεγχοι ροής μάζας και οι βαλβίδες ρύθμισης συντονίζουν τα αντιδρώντα και τα φέροντα αέρια όπως N, H, Ar, CO2, μεθάνιο, τετραχλωριούχο πυρίτιο, μεθυλτριχλωροσιλάνιο και αμμωνία. Τα υλικά που εναποτίθενται περιλαμβάνουν καρβίδιο του πυριτίου, πυρολυτικό άνθρακα, νιτρίδιο βορίου, σεληνιούχο ψευδάργυρο και θειούχο ψευδάργυρο. Οι κάμινοι εναπόθεσης ατμών CVD Chemical έχουν τόσο οριζόντια όσο και κάθετη δομή.

Εφαρμογή:Επικάλυψη SiC για σύνθετο υλικό C/C, επίστρωση SiC για γραφίτη, επίστρωση SiC, BN και ZrC για ίνες κ.λπ.

Χαρακτηριστικά των κλιβάνων εναπόθεσης χημικών ατμών Semicorex CVD

1.Στιβαρό σχέδιο κατασκευασμένο από υλικά υψηλής ποιότητας για μακροχρόνια χρήση.

2. Ακριβώς ελεγχόμενη παροχή αερίου μέσω της χρήσης ελεγκτών ροής μάζας και βαλβίδων υψηλής ποιότητας.

3.Εξοπλισμένο με χαρακτηριστικά ασφαλείας όπως προστασία από υπερβολική θερμοκρασία και ανίχνευση διαρροής αερίου για ασφαλή και αξιόπιστη λειτουργία.

4. Χρησιμοποιώντας πολλαπλές ζώνες ελέγχου θερμοκρασίας, μεγάλη ομοιομορφία θερμοκρασίας.

5.Ειδικά σχεδιασμένος θάλαμος εναπόθεσης με καλή επίδραση σφράγισης και μεγάλη απόδοση κατά της μόλυνσης.

6. Χρήση πολλαπλών καναλιών εναπόθεσης με ομοιόμορφη ροή αερίου, χωρίς νεκρές γωνίες απόθεσης και τέλεια επιφάνεια εναπόθεσης.

7. Έχει επεξεργασία για την πίσσα, τη στερεή σκόνη και τα οργανικά αέρια κατά τη διαδικασία εναπόθεσης

Προδιαγραφές φούρνου CVD
Μοντέλο	Μέγεθος Ζώνης Εργασίας (Π × Υ × Μ) mm	Μέγ. Θερμοκρασία (°C)	Θερμοκρασία Ομοιομορφία (°C)	Ultimate Vacuum (Pa)	Ρυθμός αύξησης πίεσης (Pa/h)
LFH-6900-SiC	600×600×900	1500	±7,5	1-100	0.67
LFH-10015-SiC	1000×1000×1500	1500	±7,5	1-100	0.67
LFH-1220-SiC	1200×1200×2000	1500	±10	1-100	0.67
LFH-1530-SiC	1500×1500×3000	1500	±10	1-100	0.67
LFH-2535-SiC	2500×2000×3500	1500	±10	1-100	0.67
LFV-D3050-SiC	φ300×500	1500	±5	1-100	0.67
LFV-D6080-SiC	φ600×800	1500	±7,5	1-100	0.67
LFV-D8120-SiC	φ800×1200	1500	±7,5	1-100	0.67
LFV-D11-SiC	φ1100×2000	1500	±10	1-100	0.67
LFV-D26-SiC	φ2600×3200	1500	±10	1-100	0.67

*Οι παραπάνω παράμετροι μπορούν να προσαρμοστούν στις απαιτήσεις της διαδικασίας, δεν είναι ως πρότυπο αποδοχής, η προδιαγραφή λεπτομερειών. θα αναφέρεται στην τεχνική πρόταση και τις συμφωνίες.