ALN Single Crystal Wafer

Το Semicorex ALN Single Crystal Wafer είναι μια επαναστατική εξέλιξη στην τεχνολογία ημιαγωγών, προσφέροντας έναν μοναδικό συνδυασμό εξαιρετικών ηλεκτρικών, θερμικών και μηχανικών ιδιοτήτων. Ως υλικό ημιαγωγού με εξαιρετικά ευρείας ζώνης με ένα bandgap 6.2 eV, το ALN αναγνωρίζεται ολοένα και περισσότερο ως το βέλτιστο υπόστρωμα για οπτικοηλεκτρονικές συσκευές υψηλής ισχύος, υψηλής ισχύος και βαθιάς υπεριώδους (UV). Αυτές οι ιδιότητες θέτουν aln ως ανώτερη εναλλακτική λύση σε παραδοσιακά υποστρώματα όπως ζαφείρι, καρβίδιο πυριτίου (sic) και νιτρίδιο του γαλλίου (GAN), ιδιαίτερα σε εφαρμογές που απαιτούν ακραία θερμική σταθερότητα, υψηλή τάση διάσπασης και ανώτερη θερμική αγωγιμότητα.

Επί του παρόντος, το ALN Single Crystal Wafer είναι εμπορικά διαθέσιμο σε μεγέθη έως 2 ίντσες σε διάμετρο. Καθώς συνεχίζονται οι προσπάθειες έρευνας και ανάπτυξης, οι εξελίξεις στις τεχνολογίες ανάπτυξης κρυστάλλων αναμένεται να επιτρέψουν μεγαλύτερα μεγέθη πλακιδίων, ενισχύοντας την επεκτασιμότητα της παραγωγής και μειώνοντας το κόστος για τις βιομηχανικές εφαρμογές.

Παρόμοια με την ανάπτυξη μονής κρυστάλλου SIC, οι μεμονωμένοι κρύσταλλοι ALN δεν μπορούν να καλλιεργηθούν με τη μέθοδο τήγματος, αλλά μπορούν να καλλιεργηθούν μόνο με μεταφορά φυσικών ατμών (PVT).

Υπάρχουν τρεις σημαντικές στρατηγικές ανάπτυξης για την ανάπτυξη του ALN Single Crystal PVT:

1) Ανάπτυξη αυθόρμητης πυρήνωσης

2) Η ετεροεπιταξιακή ανάπτυξη σε υπόστρωμα 4H-/6H-SIC

3) Ομομοεξική ανάπτυξη

Το ALN Single Crystal Wafer διακρίνεται από το εξαιρετικά ευρύτατο bandgap του 6.2 eV, το οποίο εγγυάται εξαιρετική ηλεκτρική μόνωση και απαράμιλλη βαθιά απόδοση UV. Αυτά τα πλακίδια διαθέτουν ένα ηλεκτρικό πεδίο υψηλής κατάρρευσης που υπερβαίνει αυτό του SIC και του Gan, τοποθετώντας τους ως τη βέλτιστη επιλογή για ηλεκτρονικές συσκευές υψηλής ισχύος. Με εντυπωσιακή θερμική αγωγιμότητα περίπου 320 W/MK, εξασφαλίζουν αποτελεσματική διάχυση θερμότητας, μια κρίσιμη απαίτηση για εφαρμογές υψηλής ισχύος. Το ALN δεν είναι μόνο χημικά και θερμικά σταθερό, αλλά διατηρεί επίσης την κορυφαία απόδοση σε ακραία περιβάλλοντα. Η ανώτερη αντίσταση της ακτινοβολίας την καθιστά μια απαράμιλλη επιλογή για χώρους και πυρηνικές εφαρμογές. Επιπλέον, οι αξιοσημείωτες πιεζοηλεκτρικές ιδιότητές του, η υψηλή ταχύτητα των πριονιών και η ισχυρή ηλεκτρομηχανική σύζευξη την καθορίζουν ως εξαιρετικό υποψήφιο για συσκευές, φίλτρα και αισθητήρες σε επίπεδο GHz.

Το ALN Single Crystal Wafer βρίσκει εκτεταμένες εφαρμογές σε διάφορες ηλεκτρονικές και οπτοηλεκτρονικές συσκευές υψηλής απόδοσης. Χρησιμεύουν ως το ιδανικό υπόστρωμα για την οπτικοηλεκτρονική Deep Ultraviolet (DUV), συμπεριλαμβανομένων των Deep UV LED που λειτουργούν στην περιοχή των 200-280 nm για αποστείρωση, καθαρισμό νερού και βιοϊατρικές εφαρμογές, καθώς και διόδους λέιζερ UV (LDS) που χρησιμοποιούνται σε προχωρημένους βιομηχανικούς και ιατρικούς τομείς. Το ALN χρησιμοποιείται επίσης ευρέως σε ηλεκτρονικές συσκευές υψηλής ισχύος και υψηλής συχνότητας, ιδιαίτερα σε συστατικά ραδιοσυχνότητας (RF) και μικροκυμάτων, όπου η υψηλή τάση διάσπασης και η χαμηλή σκέδαση ηλεκτρονίων εξασφαλίζουν ανώτερες επιδόσεις σε ενισχυτές ισχύος και συστήματα επικοινωνίας. Επιπλέον, διαδραματίζει κρίσιμο ρόλο στην ηλεκτρονική ισχύος, ενισχύοντας την αποτελεσματικότητα των μετατροπέων και των μετατροπέων σε ηλεκτρικά οχήματα, τα συστήματα ανανεώσιμων πηγών ενέργειας και τις εφαρμογές αεροδιαστημικής. Επιπλέον, οι εξαιρετικές πιεζοηλεκτρικές ιδιότητες του Aln και η υψηλή ταχύτητα του πριονιού καθιστούν το βέλτιστο υλικό για τις συσκευές επιφανειακού ακουστικού κύματος (SAW) και χύδην ακουστικού κύματος (BAW), οι οποίες είναι απαραίτητες για τις τηλεπικοινωνίες, την επεξεργασία σήματος και τις τεχνολογίες ανίχνευσης. Λόγω της εξαιρετικής θερμικής αγωγιμότητας, το ALN είναι επίσης βασικό υλικό σε λύσεις θερμικής διαχείρισης για LED υψηλής ισχύος, διόδους λέιζερ και ηλεκτρονικές μονάδες, παρέχοντας αποτελεσματική διάχυση θερμότητας και βελτίωση της μακροζωίας των συσκευών.

Το Semicorex ALN Single Crystal Wafer αντιπροσωπεύει το μέλλον των υποστρωμάτων ημιαγωγών, προσφέροντας απαράμιλλες ηλεκτρικές, θερμικές και πιεζοηλεκτρικές ιδιότητες. Οι εφαρμογές τους σε Deep UV οπτικοηλεκτρονικά, ηλεκτρονικά ισχύος και συσκευές ακουστικών κυμάτων τους καθιστούν ένα εξαιρετικά περιζήτητο υλικό για την τεχνολογία επόμενης γενιάς. Καθώς οι δυνατότητες κατασκευής συνεχίζουν να βελτιώνονται, οι Gafers ALN θα αποτελέσουν απαραίτητο στοιχείο των συσκευών ημιαγωγών υψηλής απόδοσης, ανοίγοντας το δρόμο για καινοτόμες εξελίξεις σε πολλές βιομηχανίες.