CVD SiC Fin

Καθώς οι συσκευές ημιαγωγών συνεχίζουν να εξελίσσονται προς μικρότερες γεωμετρίες και υψηλότερα επίπεδα ολοκλήρωσης, ο εξοπλισμός διεργασίας πρέπει να λειτουργεί υπό ολοένα και πιο απαιτητικές συνθήκες. Η χάραξη πλάσματος, η προηγμένη εναπόθεση και τα περιβάλλοντα παραγωγής υψηλής θερμοκρασίας εκθέτουν τα εξαρτήματα του θαλάμου σε ακραία θερμική καταπόνηση, επιθετικά αντιδραστικά αέρια και βομβαρδισμό ιόντων υψηλής ενέργειας.

Για να ανταποκριθεί σε αυτές τις προκλήσεις, η Semicorex προσφέρει CVD SiC Fin, ένα συστατικό στερεού καρβιδίου του πυριτίου υψηλής πυκνότητας που κατασκευάζεται μέσω της προηγμένης τεχνολογίας Chemical Vapor Deposition (CVD). Σε αντίθεση με τις συμβατικές επικαλύψεις λεπτής μεμβράνης SiC που συνήθως μετρούν μόνο μερικές δεκάδες ή εκατοντάδες μικρά, το CVD SiC Fin είναι μια ουσιαστικά παχύτερη, πλήρως πυκνή δομή καρβιδίου του πυριτίου με πάχη που κυμαίνονται από 500 μm έως 10.000 μm.

Αυτή η μοναδική κατασκευή επιτρέπει ανώτερη ανθεκτικότητα, μεγαλύτερη διάρκεια ζωής και εξαιρετική απόδοση σε μερικά από τα πιο απαιτητικά περιβάλλοντα επεξεργασίας ημιαγωγών.

Τι κάνει το CVD SiC Fin διαφορετικό;

Πολλά εξαρτήματα ημιαγωγών βασίζονται σε επικαλυμμένο με SiC γραφίτη ή επιστρώσεις SiC λεπτής μεμβράνης για προστασία. Ενώ αυτές οι λύσεις έχουν καλή απόδοση σε μέτριες συνθήκες διεργασίας, η έντονη έκθεση στο πλάσμα και οι εκτεταμένοι κύκλοι λειτουργίας απαιτούν συχνά ένα πιο στιβαρό σύστημα υλικού.

Το CVD SiC Fin κατασκευάζεται ως παχύ, υψηλής καθαρότητας σώμα καρβιδίου του πυριτίου αντί για απλή επίστρωση επιφάνειας. Η δομή που προκύπτει παρέχει:

Σημαντικά μεγαλύτερο πάχος υλικού

Υψηλότερη δομική ακεραιότητα

Ανώτερη αντοχή στη διάβρωση του πλάσματος

Μεγαλύτερη διάρκεια ζωής

Βελτιωμένη σταθερότητα διαστάσεων

Μειωμένος κίνδυνος μόλυνσης

Η κατασκευαστική πολυπλοκότητα του παχύΣυστατικά CVD SiCείναι σημαντικά υψηλότερο από αυτό των τυπικών προϊόντων λεπτής μεμβράνης, ιδιαίτερα όταν παράγονται περίπλοκες γεωμετρίες και χαρακτηριστικά ακριβείας.

Πυκνή δομή SiC υψηλής καθαρότητας

Η διαδικασία εναπόθεσης CVD παράγει ένα εξαιρετικά πυκνό και ομοιόμορφο υλικό καρβιδίου του πυριτίου με ελάχιστο πορώδες και εξαιρετική καθαρότητα.

Τα βασικά χαρακτηριστικά του υλικού περιλαμβάνουν:

• Σύνθεση SiC εξαιρετικά υψηλής καθαρότητας
• Υψηλή πυκνότητα και χαμηλό πορώδες
• Εξαιρετική χημική αδράνεια
• Εξαιρετική θερμική σταθερότητα
• Ανώτερη αντοχή στη διάβρωση
• Εξαιρετικά χαμηλή παραγωγή σωματιδίων

Αυτές οι ιδιότητες είναι κρίσιμες για περιβάλλοντα κατασκευής ημιαγωγών όπου η μόλυνση διεργασιών μπορεί να επηρεάσει άμεσα την απόδοση της συσκευής και την απόδοση παραγωγής.

Εξαιρετική απόδοση σε περιβάλλοντα πλάσματος

Οι σύγχρονες διεργασίες χάραξης παράγουν είδη πλάσματος υψηλής αντίδρασης ικανά να επιτίθενται σε συμβατικά υλικά με την πάροδο του χρόνου. Τα εξαρτήματα που εκτίθενται στο πλάσμα πρέπει να αντέχουν σε συνεχή βομβαρδισμό διατηρώντας παράλληλα την ακρίβεια διαστάσεων και την ακεραιότητα της επιφάνειας.

CVD SiCΤο πτερύγιο παρέχει εξαιρετική αντοχή σε:

Χημεία πλάσματος με βάση το φθόριο

Περιβάλλοντα χάραξης με βάση το χλώριο

Βομβαρδισμός ιόντων

Χημική διάβρωση

Θερμική ανακύκλωση

Η πυκνή μικροδομή του μειώνει σημαντικά την υποβάθμιση του υλικού και βοηθά στη διατήρηση σταθερών συνθηκών διεργασίας σε όλη την εκτεταμένη περίοδο παραγωγής.

Αυτό καθιστά το υλικό ιδιαίτερα πολύτιμο στην προηγμένη κατασκευή ολοκληρωμένων κυκλωμάτων όπου η επαναληψιμότητα διεργασιών και ο χρόνος λειτουργίας του εξοπλισμού είναι ζωτικής σημασίας.

Σχεδιασμένο για εφαρμογές εξαιρετικά υψηλών θερμοκρασιών

Εκτός από την αντίσταση στο πλάσμα, το CVD SiC Fin αποδίδει εξαιρετικά κάτω από ακραίες θερμικές συνθήκες.

Το καρβίδιο του πυριτίου είναι γνωστό για την ικανότητά του να διατηρεί τη μηχανική αντοχή και τη σταθερότητα των διαστάσεων σε θερμοκρασίες που θα προκαλούσαν πολλά συμβατικά υλικά μηχανικής.

Τα πλεονεκτήματα περιλαμβάνουν:

• Εξαιρετική αντοχή στο θερμικό σοκ
• Χαμηλή θερμική διαστολή
• Μηχανική σταθερότητα σε υψηλές θερμοκρασίες
• Αντοχή σε θερμική παραμόρφωση
• Μακροπρόθεσμη αξιοπιστία σε σκληρά περιβάλλοντα

Η Semicorex διαθέτει την τεχνική τεχνογνωσία που απαιτείται για την κατασκευή εξαρτημάτων CVD SiC σε ένα ευρύ φάσμα γεωμετριών, συμπεριλαμβανομένων:

• Πτερύγια
• Δαχτυλίδια
  
• Ασπίδες
• Εστίαση στοιχείων
• Στοιχεία διανομής αερίου
• Επενδύσεις θαλάμου
• Προσαρμοσμένα εξαρτήματα που βλέπουν στο πλάσμα

Εφαρμογές στην Κατασκευή Ημιαγωγών

Τα εξαρτήματα CVD SiC Fin χρησιμοποιούνται ευρέως σε όλο τον εξοπλισμό κατασκευής ημιαγωγών, ιδιαίτερα σε περιοχές που εκτίθενται σε επιθετικές συνθήκες διεργασίας.

Οι τυπικές εφαρμογές περιλαμβάνουν:

Συστήματα χάραξης πλάσματος

Ξηροί θάλαμοι χάραξης

Εξοπλισμός εναπόθεσης ημιαγωγών

Κατασκευή προηγμένων λογικών συσκευών

Παραγωγή συσκευής μνήμης

Επεξεργασία ημιαγωγών ισχύος

Κατασκευή σύνθετων ημιαγωγών